最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。

 

◇ 节省空间

标准的设备占地面积为4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往机型占用空间更小，外形更加紧凑美观。

◇ 低功耗

正常工作时的功耗约为3kVA，仅需以往机型耗电量的1/3。

◇ 高产能

具备高分辨率和高速两种刻写模式，非常适用于超微细加工以及批量生产。该设备减少了刻写过程中的无谓耗时，并将扫描频率提升至业界最高最水准的125MHz (以往机型的1.25～2.5倍)，使其具备更高的生产能力。

◇ 机型

JBX-8100FS系列设有G1（基本版）和G2（全配版）两种机型。G1机型装机后也可进行升级，使其支持更高的应用需求。

◇ 新功能

安装光学显微镜（选配）后，在避免光刻胶感光的的同时可对材料上的图形进行确认。设备还配备了信号塔（标配），实现了视觉范围内的系统运行状况监控。

◇ 激光定位分辨率

采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪，对样品台位置进行高精度的量测控制。

◇ 系统控制

配备了Linux®系统，图形用户界面使操作更加简单，便于初学者使用。数据准备程序支持Linux®和Windows®

 

备注：
Linux® 为Linus Torval在日本及其它国家的注册商标或商标。
Windows为美国微软公司在美国及其它国家的注册商标或商标。

 

 主要技术指标

机型	G1 (基本版)	G2 (全配版)
描画方式	圆形束斑, 矢量扫描, 步进重复移动方式	←
加速电压	100kV	100kV/50kV
电流	5×10-12　～　2×10-7A	←
写场尺寸	最大1,000μm×1,000μm	最大2,000μm×2,000μm
扫描频率	最大125MHz	←
样品台移动范围	190mm×170mm	←
套刻精度	≦±9nm	←
场拼接精度	≦±9nm	←
正常工作时的功耗	3kVA	←
样品尺寸	最大200mmΦ的晶圆片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小样品。	←
材料传送	（1张）自动装载系统	（12张）自动装载系统
主要选配件	光学显微镜   25kV加速电压   数据准备程序的追加授权