Shenzhen Qi Xinda Technology Co., Ltd.
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Number：
Name：静止型回流炉装置
| 项目 | 规格 |
| 型式 | RDT-250C |
| 対象基板 | 250W×330Lmm以下 高 保持面上下共15mm以下 |
| 装置尺寸 | 830(W)×557(D)×523(H)(mm) |
| 加熱方式 | 上面：热风、远红外线辐射并用 下面：远红外线辐射 |
| 冷却方式 | 外部气体（氮气或空气）通过导入（排气口连动） 附带冷却用流量调整阀门 |
| 電源 | 3相 200V 50/60Hz 18kVA |
| 外部气体 | 0.3～0.5MPa 100㍑／min（MAX） |
| 炉内氧浓度 （氮气使用时） | 最低100ppm |
| 基板托盘 | 网式或载体式（可任选） |
| 上面加熱 | 热风、远红外线加热器：7.2kW(約240W×30格) ※可对基准模组进行偏差设定 热风加热器：8kW(2kW×4) |
| 下面加熱 | 远红外线加热器：約2kW（330W×6） |
| 温度精度 | 常温～80℃：±3℃ 80℃～330℃：±2℃ |
| 測定温度 | 常温～330℃ |
| 測定点数 | 6点 |
| 氮气供给机能 | 流量调整阀门：100ℓ／min |
| 控制 | RDT-250S |
| 対応OS：WindowsXP/2000 | |
| 装置重量 | 約110kg |
